光刻机性能指标是什么

光刻机采用类似的照片打印技术，通过光线曝光将掩膜版本上的精细图形打印在硅片上。那么，光刻机的性能指标是什么呢？

1、光刻机的主要性能指标有：支持基板尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

2、分辨率是描述光刻过程中最细线精度的方法。光刻的分辨率受光源衍射的限制，因此受光源、光刻系统、光刻胶和工艺的限制。

3、对准精度是多层曝光时层间图案的定位精度。

4、曝光分为接触式、投影式和直写式。

5、曝光源波长分为紫外线、深紫外线和极紫外线区域，光源有汞灯、准分子激光器等。

以上是光刻机性能指标的全部内容。

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